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二次离子质谱（SIMS）是一种高灵敏度的表面分析技术，通过一次离子束轰击样品产生二次离子，分析其质量电荷比，获取表面元素和分子信息。该技术具有全元素检测、同位素分析、高分辨率成像及深度剖析能力，分析深度通常小于1纳米。其应用涵盖半导体、生物医药、材料科学及地质研究等领域。

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